InPolish系统的单面链式工艺采用抛光腐蚀对硅片的一面进行平整。因此为以高效为理念的如背面钝化电池提供平滑的表面，改善背面反射，获取高效的钝化背表面。与InSiOx和InOxSide设备相结合，RENA为您提供全套的背面钝化电池工具集。

优势及特性

• 可实现背面钝化电池工艺方案
• 链式单面工艺：
  - 较小的占地面积
  - 最理想的工艺和工作流程整合
• 适用于多晶和单晶电池片
• 技术领先
  - RENA始创的工艺技术
  - 刻蚀深度和抛光等级可根据电池的要求进行调整