BatchEtch

      祛除切片所造的锯痕及表面损伤层。

      优势及特性:

  • 全自动及半自动化的操作
  • 套槽式设计,增强了腐蚀均匀性
  • 通过自动补液,延长了溶液的使用时间
  • 先进的操作和传输系统,降低了碎片率
  • 独有的反应槽—载片盒接口设计,有效防止了硅片的滑动
  • 通过触摸屏可简便调整硅片规格
  • 高稳定性及高重复性
  • 可自定义刻蚀率

ARENA

RENA exibits WaSep at 26th PV SEC in Hamburg

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联系人

Jennifer Wu

电池片前端槽式技术
@: 詹妮弗 吴