酸洗工艺可将硅片表面的金属、氧化和有机残余物。

      优势及特性：

• 仅在一个工艺槽可完成多道清洗步骤
• 采用HF/O₃专利的工艺组件把硅片的清洁和干燥集成到一个工序中,还有臭氧供给和监控功能
• 整合了酸洗和无残余物干燥功能
• 较少的药液和纯水消耗量具有良好环保性
• 高度工艺整合，减少了占地面积