自调可选发射体解决方案

自调可选发射体解决方案分两个步骤：

第一步骤：瑞能SelectDop LCP，一排精准的水喷式导向激光用于本地n级掺杂 (20 Ohm/sq)并同时可以实现SiNx烧蚀。

第二步骤：瑞能InCellPlate用于以下自调性电镀工艺 (Ni/Ag oder Ni/Cu/Ag)。