基材清洁

      优化的玻璃和软性基材生产工艺。

PVGlassClean——玻璃基材清洁
PVFlexxClean——软性基材清洁

      RENA的高性能的清洁设备,确保了最优的清洁效果。

      优势及特性:

  • 提供标准规格(最大2200 x 2600mm)
  • 最小化用水量
  • 模块化设计
  • 清洁均匀
  • 最优化配置成本
  • 采用刷除技术
  • 横向传输系统
  • 高效的过滤系统
  • 水压高效溢流系统(HDF ),高效清洁
  • 超声波技术
  • 正常运作率>98%

ARENA

RENA exibits WaSep at 26th PV SEC in Hamburg

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联系人

Jennifer Wu

薄膜电池片设备
@: 詹妮弗 吴