电镀
Höllmüller EVOLUTION

      均匀的金属表面和孔沉积。在Cu、 Ni、 Au、 Sn和Ga沉积方面有数十年的丰富经验,沉积结果稳定,且维护成本低。

优势及特性:

  • 不溶解阳极和反向脉冲技术
  • 通过对脉冲幅度和时间的变化,可使泳透力高达100%
  • 采用溢流动力流动控制系统的高效溢流技术
  • 维护简易

电流传输

  • 电流馈接由简易的寿命长达一年的输电环提供
  • 独有的去镀层理念,且阴极处于工艺区之外
  • 接触面< 12.7 mm ( 1/2 英寸 )

ARENA

RENA exibits WaSep at 26th PV SEC in Hamburg

 [更多内容]

联系人