硅片干燥

       RENA最新的干燥工艺大大缩短了干燥时间,提高了产能。

干燥
      最新的干燥技术,可满足一切清洁要求。

      优势及特性:

  • 无载片盒操作
  • 提供各类干燥工艺设备
       马兰戈尼干燥法
       HF/O3干燥法 
       热水干燥法
       单硅片离心干燥法
       载片盒离心干燥法
  • 较短的干燥时间
  • 无残余物干燥

ARENA

RENA exibits WaSep at 26th PV SEC in Hamburg

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联系人

Frank Schienle

半导体
@: 弗兰克 辛乐