RENA为您提供最优的，硅片清洁干燥的模块化工作台。模块化的设计，为您提供特别的解决方案。根据上、下料方式的不同，可为您提供有载片盒和无载片盒，两种操作系统。

RCA Clean清洁工艺
      先进的硅片间距压缩工艺，带来高产能。

      优势及特性:

• 完美去除微尘和金属沾污
• 开创性的，优于国际标准的，排气控制装置和监测系统，更安全环保
• 缩短了换槽时间

先进的ACD清洁干燥工艺
      紧凑的“三槽式”设备，采用独有的，成熟的HF/O3 技术。

      优势及特性:

• 把工序缩短为三步：SC1, QDR和HF /O
• 完美去除微尘和金属沾污
• HF/O3:金属沾污去除，干燥和表面修整，一步完成
• 连续运作时间长