分析与测量

      基本参数实时监测——RENA为您提供整合的工艺检测和质量控制系统,更加经济实惠。

检测和分类
      炉前分析
      通过对溶液的长期监控,提高了湿法工艺中每一道工序的质量标准。

      优势及特性:

  • 完善的工艺监测
  • 过程开发和生产支持
  • 优化的的工艺整合
  • 在线/离线炉前分析
  • 在线/离线滴定法



分析定性
      整合于RENA设备中的检测系统,可以通过对硅片的厚度、刻蚀率、表面不平整度、破损等定性分析,帮您在湿法生产工艺中,进行质量控制和流程监控。

      优势及特性:

  • 链式监测
  • 链式分析
  • 表面定性分析,如:表面不平整度
  • 先进的测量工具(可用于300mm硅片)
  • 厚度测量
  • 翘曲度检测

ARENA

RENA exibits WaSep at 26th PV SEC in Hamburg

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联系人

Frank Schienle

半导体
@: 弗兰克 辛乐